8-дюймовая сапфировая пластина, 200 мм, несущая подложка 1SP 2SP 0,5 мм 0,75 мм
Метод изготовления
Процесс изготовления 8-дюймовой сапфировой подложки включает в себя несколько этапов.Сначала порошок оксида алюминия высокой чистоты плавится при высокой температуре с образованием расплавленного состояния.Затем в расплав погружают затравочный кристалл, позволяя сапфиру расти по мере того, как затравка медленно извлекается.После достаточного роста сапфировое стекло аккуратно разрезается на тонкие пластины, которые затем полируются до получения гладкой и безупречной поверхности.
Применение 8-дюймовой сапфировой подложки: 8-дюймовая сапфировая подложка широко используется в полупроводниковой промышленности, особенно в производстве электронных устройств и оптоэлектронных компонентов.Он служит важной основой для эпитаксиального роста полупроводников, позволяя создавать высокопроизводительные интегральные схемы, светодиоды (LED) и лазерные диоды.Сапфировая подложка также находит применение при производстве оптических окон, циферблатов и защитных чехлов для смартфонов и планшетов.
Характеристики продукта: 8-дюймовая сапфировая подложка
- Размер: 8-дюймовая сапфировая подложка имеет диаметр 200 мм, что обеспечивает большую площадь поверхности для нанесения эпитаксиальных слоев.
- Качество поверхности: поверхность подложки тщательно полируется для достижения высокого оптического качества с шероховатостью поверхности менее 0,5 нм RMS.
- Толщина: Стандартная толщина подложки составляет 0,5 мм.Однако по запросу доступны индивидуальные варианты толщины.
- Упаковка: Сапфировые подложки упаковываются индивидуально, чтобы обеспечить защиту при транспортировке и хранении.Обычно их помещают в специальные лотки или коробки с соответствующими амортизирующими материалами для предотвращения повреждений.
- Ориентация кромок: подложка имеет заданную ориентацию кромок, что имеет решающее значение для точного выравнивания в процессе производства полупроводников.
В заключение отметим, что 8-дюймовая сапфировая подложка — универсальный и надежный материал, широко используемый в полупроводниковой промышленности благодаря своим исключительным термическим, химическим и оптическим свойствам.Благодаря превосходному качеству поверхности и точным характеристикам он служит важным компонентом в производстве высокопроизводительных электронных и оптоэлектронных устройств.