8-дюймовая 200-мм сапфировая пластина, подложка 1SP 2SP 0,5 мм 0,75 мм
Метод изготовления
Процесс изготовления 8-дюймовой сапфировой подложки включает несколько этапов. Сначала порошок высокочистого оксида алюминия расплавляется при высокой температуре до образования расплавленного состояния. Затем в расплав погружают затравку, позволяя сапфиру расти по мере медленного извлечения затравки. После достаточного роста сапфировый кристалл аккуратно разрезают на тонкие пластины, которые затем полируют для получения гладкой и безупречной поверхности.
Области применения 8-дюймовой сапфировой подложки: 8-дюймовая сапфировая подложка широко используется в полупроводниковой промышленности, в частности, в производстве электронных устройств и оптоэлектронных компонентов. Она служит важнейшей основой для эпитаксиального роста полупроводников, позволяя создавать высокопроизводительные интегральные схемы, светодиоды (LED) и лазерные диоды. Сапфировая подложка также находит применение в производстве оптических окон, циферблатов для часов и защитных чехлов для смартфонов и планшетов.
Технические характеристики изделия с 8-дюймовой сапфировой подложкой
- Размер: 8-дюймовая сапфировая подложка имеет диаметр 200 мм, что обеспечивает большую площадь поверхности для осаждения эпитаксиальных слоев.
- Качество поверхности: Поверхность подложки тщательно полируется для достижения высокого оптического качества, с шероховатостью поверхности менее 0,5 нм RMS.
- Толщина: Стандартная толщина подложки составляет 0,5 мм. Однако по запросу доступны варианты с индивидуальной толщиной.
- Упаковка: Сапфировые подложки упаковываются индивидуально для обеспечения защиты во время транспортировки и хранения. Обычно их помещают в специальные лотки или коробки с соответствующими амортизирующими материалами для предотвращения повреждений.
- Ориентация кромок: Подложка поставляется с заданной ориентацией кромок, что имеет решающее значение для точного выравнивания в процессе производства полупроводников.
В заключение, 8-дюймовая сапфировая подложка — это универсальный и надежный материал, широко используемый в полупроводниковой промышленности благодаря своим исключительным термическим, химическим и оптическим свойствам. Благодаря превосходному качеству поверхности и точным характеристикам, она служит важнейшим компонентом в производстве высокопроизводительных электронных и оптоэлектронных устройств.
Подробная схема





