Слиток SiC 4H тип диаметр 4 дюйма 6 дюймов толщина 5-10 мм исследовательский / фиктивный класс
Характеристики
1. Кристаллическая структура и ориентация
Политип: 4H (гексагональная структура)
Константы решетки:
а = 3,073 Å
с = 10,053 Å
Ориентация: обычно [0001] (плоскость C), но другие ориентации, такие как [11\overline{2}0] (плоскость A), также доступны по запросу.
2. Физические размеры
Диаметр:
Стандартные варианты: 4 дюйма (100 мм) и 6 дюймов (150 мм)
Толщина:
Доступно в диапазоне 5–10 мм, настраивается в зависимости от требований применения.
3. Электрические свойства
Тип легирования: доступны следующие типы: собственный (полуизолирующий), n-типа (легированный азотом) или p-типа (легированный алюминием или бором).
4. Термические и механические свойства
Теплопроводность: 3,5–4,9 Вт/см·К при комнатной температуре, что обеспечивает превосходное рассеивание тепла.
Твёрдость: 9 по шкале Мооса, что делает SiC вторым по твёрдости после алмаза.
Параметр | Подробности | Единица |
Метод роста | PVT (физический перенос пара) | |
Диаметр | 50,8 ± 0,5 / 76,2 ± 0,5 / 100,0 ± 0,5 / 150 ± 0,5 | mm |
Политип | 4H / 6H (50,8 мм), 4H (76,2 мм, 100,0 мм, 150 мм) | |
Ориентация поверхности | 0,0˚ / 4,0˚ / 8,0˚ ± 0,5˚ (50,8 мм), 4,0˚ ± 0,5˚ (другие) | степень |
Тип | N-типа | |
Толщина | 5-10 / 10-15 / >15 | mm |
Первичная плоская ориентация | (10-10) ± 5,0˚ | степень |
Длина первичной плоскости | 15,9 ± 2,0 (50,8 мм), 22,0 ± 3,5 (76,2 мм), 32,5 ± 2,0 (100,0 мм), 47,5 ± 2,5 (150 мм) | mm |
Вторичная плоская ориентация | 90˚ против часовой стрелки от ориентации ± 5,0˚ | степень |
Длина вторичной плоскости | 8,0 ± 2,0 (50,8 мм), 11,2 ± 2,0 (76,2 мм), 18,0 ± 2,0 (100,0 мм), Нет (150 мм) | mm |
Оценка | Исследование / Фиктивный |
Приложения
1. Исследования и разработки
Слиток 4H-SiC исследовательского класса идеально подходит для академических и промышленных лабораторий, занимающихся разработкой устройств на основе SiC. Его превосходное качество кристаллов позволяет проводить точные эксперименты со свойствами SiC, такими как:
Исследования мобильности носителей.
Методы характеризации и минимизации дефектов.
Оптимизация процессов эпитаксиального роста.
2. Фиктивный субстрат
Слиток фиктивного класса широко используется в тестировании, калибровке и прототипировании. Это экономически эффективная альтернатива для:
Калибровка параметров процесса химического осаждения из паровой фазы (CVD) или физического осаждения из паровой фазы (PVD).
Оценка процессов травления и полировки в производственных условиях.
3. Силовая электроника
Благодаря широкой запрещенной зоне и высокой теплопроводности 4H-SiC является краеугольным камнем для силовой электроники, такой как:
Высоковольтные МОП-транзисторы.
Диоды с барьером Шоттки (SBD).
Полевые транзисторы с переходным механизмом (JFET).
Области применения включают инверторы для электромобилей, солнечные инверторы и интеллектуальные сети.
4. Высокочастотные устройства
Высокая подвижность электронов и низкие потери емкости материала делают его пригодным для:
Радиочастотные (РЧ) транзисторы.
Системы беспроводной связи, включая инфраструктуру 5G.
Аэрокосмические и оборонные приложения, требующие радиолокационных систем.
5. Радиационно-стойкие системы
Присущая 4H-SiC устойчивость к радиационному воздействию делает его незаменимым в суровых условиях, таких как:
Аппаратура для исследования космоса.
Оборудование для мониторинга атомных электростанций.
Электроника военного уровня.
6. Новые технологии
По мере развития технологии SiC ее применение продолжает расширяться в таких областях, как:
Исследования в области фотоники и квантовых вычислений.
Разработка мощных светодиодов и УФ-датчиков.
Интеграция в широкозонные полупроводниковые гетероструктуры.
Преимущества слитка 4H-SiC
Высокая чистота: производится в строгих условиях для минимизации примесей и плотности дефектов.
Масштабируемость: доступны модели диаметром 4 и 6 дюймов для удовлетворения потребностей промышленного стандарта и масштаба исследований.
Универсальность: Возможность адаптации к различным типам и ориентациям легирования для удовлетворения конкретных требований применения.
Надежная работа: превосходная термическая и механическая стабильность в экстремальных условиях эксплуатации.
Заключение
Слиток 4H-SiC, обладающий исключительными свойствами и широким спектром применения, занимает лидирующие позиции в области инновационных материалов для электроники и оптоэлектроники нового поколения. Эти слитки, используемые в научных исследованиях, промышленном прототипировании или производстве современных устройств, представляют собой надежную платформу для расширения границ технологий. Благодаря возможности индивидуального подбора размеров, легирования и ориентации, слиток 4H-SiC идеально подходит для удовлетворения меняющихся потребностей полупроводниковой промышленности.
Если вы заинтересованы в получении более подробной информации или размещении заказа, свяжитесь с нами для получения подробных спецификаций и технической консультации.
Подробная схема



