Слиток SiC типа 4H, диаметр 4 дюйма, толщина 6 дюймов, 5-10 мм, исследовательский/пробный сорт.

Краткое описание:

Карбид кремния (SiC) стал ключевым материалом в передовых электронных и оптоэлектронных приложениях благодаря своим превосходным электрическим, тепловым и механическим свойствам. Слиток 4H-SiC, доступный в диаметрах 4 и 6 дюймов и толщиной 5-10 мм, является базовым продуктом для исследовательских и опытно-конструкторских работ или в качестве материала для опытных образцов. Этот слиток предназначен для обеспечения исследователей и производителей высококачественными подложками из SiC, подходящими для изготовления прототипов устройств, экспериментальных исследований, калибровки и тестирования. Благодаря своей уникальной гексагональной кристаллической структуре, слиток 4H-SiC имеет широкое применение в силовой электронике, высокочастотных устройствах и радиационно-стойких системах.


Функции

Характеристики

1. Кристаллическая структура и ориентация
Политип: 4H (гексагональная структура)
Постоянные решетки:
a = 3,073 Å
c = 10,053 Å
Ориентация: Обычно [0001] (плоскость C), но по запросу доступны и другие ориентации, например, [11\overline{2}0] (плоскость A).

2. Физические размеры
Диаметр:
Стандартные варианты: 4 дюйма (100 мм) и 6 дюймов (150 мм)
Толщина:
Доступны в диапазоне 5-10 мм, с возможностью индивидуальной настройки в зависимости от требований применения.

3. Электрические свойства
Тип легирования: Доступны варианты с собственным легированием (полуизолирующие), n-типа (легированные азотом) или p-типа (легированные алюминием или бором).

4. Тепловые и механические свойства
Теплопроводность: 3,5-4,9 Вт/см·К при комнатной температуре, что обеспечивает превосходное рассеивание тепла.
Твердость: по шкале Мооса 9, что делает карбид кремния вторым по твердости после алмаза.

Параметр

Подробности

Единица

Метод роста PVT (физический перенос паров)  
Диаметр 50,8 ± 0,5 / 76,2 ± 0,5 / 100,0 ± 0,5 / 150 ± 0,5 mm
Политип 4H / 6H (50,8 мм), 4H (76,2 мм, 100,0 мм, 150 мм)  
Ориентация поверхности 0,0˚ / 4,0˚ / 8,0˚ ± 0,5˚ (50,8 мм), 4,0˚ ± 0,5˚ (другие) степень
Тип N-тип  
Толщина 5-10 / 10-15 / >15 mm
Ориентация основной квартиры (10-10) ± 5,0˚ степень
Основная плоская длина 15,9 ± 2,0 (50,8 мм), 22,0 ± 3,5 (76,2 мм), 32,5 ± 2,0 (100,0 мм), 47,5 ± 2,5 (150 мм) mm
Вторичная ориентация квартиры 90˚ против часовой стрелки от ориентации ± 5,0˚ степень
Вторичная плоская длина 8,0 ± 2,0 (50,8 мм), 11,2 ± 2,0 (76,2 мм), 18,0 ± 2,0 (100,0 мм), Нет (150 мм) mm
Оценка Исследование / Макет  

Приложения

1. Исследования и разработки

Исследовательский слиток 4H-SiC идеально подходит для академических и промышленных лабораторий, занимающихся разработкой устройств на основе SiC. Его превосходное кристаллическое качество позволяет проводить точные эксперименты по изучению свойств SiC, таких как:
Исследования мобильности авианосцев.
Методы характеризации и минимизации дефектов.
Оптимизация процессов эпитаксиального роста.

2. Имитация подложки
Образец слитка широко используется в испытаниях, калибровке и прототипировании. Это экономически выгодная альтернатива для:
Калибровка параметров процесса при химическом осаждении из паровой фазы (CVD) или физическом осаждении из паровой фазы (PVD).
Оценка процессов травления и полировки в производственных условиях.

3. Силовая электроника
Благодаря широкой запрещенной зоне и высокой теплопроводности, 4H-SiC является краеугольным камнем силовой электроники, например:
Высоковольтные MOSFET-транзисторы.
Диоды Шоттки (SBD).
Полевые транзисторы с p-n переходом (JFET).
Области применения включают инверторы для электромобилей, солнечные инверторы и интеллектуальные энергосети.

4. Высокочастотные устройства
Высокая подвижность электронов и низкие потери емкости делают этот материал пригодным для:
Радиочастотные (РЧ) транзисторы.
Беспроводные системы связи, включая инфраструктуру 5G.
Применение радиолокационных систем в аэрокосмической и оборонной отраслях.

5. Радиационные системы
Врожденная устойчивость 4H-SiC к радиационному повреждению делает его незаменимым в суровых условиях, таких как:
Оборудование для исследования космоса.
Оборудование для мониторинга атомных электростанций.
Электроника военного класса.

6. Новые технологии
По мере развития технологии SiC, сфера ее применения продолжает расти, охватывая такие области, как:
Исследования в области фотоники и квантовых вычислений.
Разработка мощных светодиодов и УФ-датчиков.
Интеграция в гетероструктуры на основе широкозонных полупроводников.
Преимущества слитка 4H-SiC
Высокая чистота: Производится в строгих условиях для минимизации количества примесей и дефектов.
Масштабируемость: Доступны варианты диаметром 4 и 6 дюймов для удовлетворения потребностей как промышленного, так и исследовательского масштаба.
Универсальность: адаптируется к различным типам и направлениям легирования для удовлетворения конкретных требований применения.
Высокая производительность: превосходная термическая и механическая стабильность в экстремальных условиях эксплуатации.

Заключение

Слиток 4H-SiC, обладающий исключительными свойствами и широким спектром применения, находится на переднем крае инноваций в области материалов для электроники и оптоэлектроники следующего поколения. Независимо от того, используется ли он для академических исследований, промышленного прототипирования или производства передовых устройств, эти слитки обеспечивают надежную платформу для расширения границ технологий. Благодаря возможности индивидуальной настройки размеров, легирования и ориентации, слиток 4H-SiC адаптирован к меняющимся требованиям полупроводниковой промышленности.
Если вас заинтересовала дополнительная информация или вы хотите разместить заказ, пожалуйста, свяжитесь с нами для получения подробных технических характеристик и консультации.

Подробная схема

Слиток SiC11
Слиток SiC15
Слиток SiC12
SiC Ingot14

  • Предыдущий:
  • Следующий:

  • Напишите здесь своё сообщение и отправьте его нам.