Керамическая пластина/лоток из карбида кремния для держателя 4- и 6-дюймовых пластин для ИСП-спектрометрии.
Керамическая пластина SiC. Аннотация.
Керамическая пластина из карбида кремния (SiC) — это высокоэффективный компонент, изготовленный из высокочистого карбида кремния и предназначенный для использования в экстремальных температурных, химических и механических условиях. Известная своей исключительной твердостью, теплопроводностью и коррозионной стойкостью, пластина из SiC широко используется в качестве подложки для пластин, подложки или конструкционного компонента в полупроводниковой, светодиодной, фотоэлектрической и аэрокосмической промышленности.
Благодаря выдающейся термической стабильности до 1600 °C и превосходной устойчивости к реактивным газам и плазменным средам, пластина из карбида кремния обеспечивает стабильную работу в процессе высокотемпературного травления, осаждения и диффузии. Ее плотная, непористая микроструктура минимизирует образование частиц, что делает ее идеальной для сверхчистых применений в вакууме или чистых помещениях.
Применение керамической пластины из карбида кремния (SiC).
1. Производство полупроводников
Керамические пластины из карбида кремния (SiC) широко используются в качестве подложек для пластин, подложек и опорных пластин в оборудовании для производства полупроводников, таком как системы CVD (химическое осаждение из паровой фазы), PVD (физическое осаждение из паровой фазы) и травления. Их превосходная теплопроводность и низкое термическое расширение позволяют поддерживать равномерное распределение температуры, что имеет решающее значение для высокоточной обработки пластин. Устойчивость SiC к коррозионным газам и плазме обеспечивает долговечность в агрессивных средах, помогая снизить загрязнение частицами и затраты на техническое обслуживание оборудования.
2. Светодиодная промышленность – травление методом ICP
В секторе производства светодиодов пластины из карбида кремния (SiC) являются ключевыми компонентами в системах травления с индуктивно связанной плазмой (ICP). Выступая в качестве держателей пластин, они обеспечивают стабильную и термостойкую платформу для поддержки сапфировых или GaN-пластин во время плазменной обработки. Их превосходная устойчивость к плазме, плоскостность поверхности и стабильность размеров помогают обеспечить высокую точность и равномерность травления, что приводит к увеличению выхода годной продукции и производительности светодиодных чипов.
3. Фотовольтаика (ФВ) и солнечная энергия
Керамические пластины из карбида кремния (SiC) также используются в производстве солнечных элементов, особенно на этапах высокотемпературного спекания и отжига. Их инертность при повышенных температурах и устойчивость к деформации обеспечивают стабильную обработку кремниевых пластин. Кроме того, низкий риск загрязнения имеет решающее значение для поддержания эффективности фотоэлектрических элементов.
Свойства керамической пластины из карбида кремния
1. Исключительная механическая прочность и твердость.
Керамические пластины из карбида кремния обладают очень высокой механической прочностью: типичная прочность на изгиб превышает 400 МПа, а твердость по Виккерсу достигает >2000 HV. Это делает их высокоустойчивыми к механическому износу, истиранию и деформации, обеспечивая длительный срок службы даже при высоких нагрузках или многократных термических циклах.
2. Высокая теплопроводность
Карбид кремния обладает превосходной теплопроводностью (обычно 120–200 Вт/м·К), что позволяет ему равномерно распределять тепло по своей поверхности. Это свойство имеет решающее значение в таких процессах, как травление пластин, осаждение или спекание, где равномерность температуры напрямую влияет на выход и качество продукции.
3. Превосходная термостойкость
Благодаря высокой температуре плавления (2700 °C) и низкому коэффициенту теплового расширения (4,0 × 10⁻⁶/K), керамические пластины из карбида кремния сохраняют точность размеров и структурную целостность при быстрых циклах нагрева и охлаждения. Это делает их идеальными для применения в высокотемпературных печах, вакуумных камерах и плазменных средах.
| Технические характеристики | ||||
| Индекс | Единица | Ценить | ||
| Название материала | Реакционно-спеченный карбид кремния | Безнапорное спеченное карбид кремния | Перекристаллизованный карбид кремния | |
| Композиция | RBSiC | SSIC | R-SiC | |
| Объемная плотность | г/см3 | 3 | 3,15 ± 0,03 | 2.60-2.70 |
| Прочность на изгиб | МПа (кпси) | 338(49) | 380(55) | 80-90 (20°C) 90-100 (1400°C) |
| Прочность на сжатие | МПа (кпси) | 1120(158) | 3970(560) | > 600 |
| Твердость | Кнуп | 2700 | 2800 | / |
| Преодоление упорства | МПа м1/2 | 4.5 | 4 | / |
| Теплопроводность | Вт/мк | 95 | 120 | 23 |
| Коэффициент теплового расширения | 10-6.1/°C | 5 | 4 | 4.7 |
| Удельная теплоемкость | Джоуль/г 0 кДж | 0,8 | 0,67 | / |
| Максимальная температура воздуха | ℃ | 1200 | 1500 | 1600 |
| Модуль упругости | Гпа | 360 | 410 | 240 |
Вопросы и ответы по керамической пластине из карбида кремния
В: Каковы свойства пластины из карбида кремния?
А: Пластины из карбида кремния (SiC) известны своей высокой прочностью, твердостью и термической стабильностью. Они обладают превосходной теплопроводностью и низким коэффициентом теплового расширения, что обеспечивает надежную работу при экстремальных температурах. SiC также химически инертен, устойчив к кислотам, щелочам и плазменным средам, что делает его идеальным материалом для обработки полупроводников и светодиодов. Его плотная, гладкая поверхность минимизирует образование частиц, обеспечивая совместимость с чистыми помещениями. Пластины из SiC широко используются в качестве подложек для пластин, подложек и опорных компонентов в высокотемпературных и агрессивных средах в полупроводниковой, фотоэлектрической и аэрокосмической отраслях.









