Высокоточная микроструйная лазерная система для обработки твердых и хрупких материалов.
Основные характеристики
1. Двухволновой лазерный источник Nd:YAG
Система, использующая твердотельный Nd:YAG лазер с диодной накачкой, поддерживает как зеленую (532 нм), так и инфракрасную (1064 нм) длины волн. Эта двухдиапазонная возможность обеспечивает превосходную совместимость с широким спектром профилей поглощения материалов, повышая скорость и качество обработки.
2. Инновационная микроструйная лазерная передача
Благодаря сочетанию лазера и микроструи воды под высоким давлением, эта система использует полное внутреннее отражение для точного направления лазерной энергии вдоль потока воды. Этот уникальный механизм подачи обеспечивает сверхточную фокусировку с минимальным рассеянием и позволяет получать линии толщиной до 20 мкм, обеспечивая непревзойденное качество резки.
3. Терморегулирование в микромасштабе
Встроенный прецизионный модуль водяного охлаждения регулирует температуру в точке обработки, поддерживая зону термического воздействия (ЗТВ) в пределах 5 мкм. Эта функция особенно ценна при работе с термочувствительными и склонными к разрушению материалами, такими как SiC или GaN.
4. Модульная конфигурация питания
Платформа поддерживает три варианта мощности лазера — 50 Вт, 100 Вт и 200 Вт, что позволяет клиентам выбрать конфигурацию, соответствующую их требованиям к производительности и разрешению.
5. Платформа для точного управления движением
Система включает в себя высокоточный столик с позиционированием ±5 мкм, оснащенный 5-осевым перемещением и опциональными линейными или прямыми приводами. Это обеспечивает высокую повторяемость и гибкость даже при работе со сложными геометрическими формами или при пакетной обработке.
Области применения
Обработка кремниевых карбидных пластин:
Идеально подходит для обрезки краев, нарезки и измельчения кремниевых пластин в силовой электронике.
Обработка подложек из нитрида галлия (GaN):
Поддерживает высокоточную разметку и резку, специально разработан для применения в радиочастотных и светодиодных устройствах.
Структурирование широкозонных полупроводников:
Совместим с алмазом, оксидом галлия и другими перспективными материалами для высокочастотных и высоковольтных применений.
Резка композитных материалов в аэрокосмической отрасли:
Точная резка керамических композитных материалов и современных подложек аэрокосмического класса.
LTCC и фотоэлектрические материалы:
Используется для сверления микросквозных отверстий, прокладки траншей и нанесения разметки при высокочастотном производстве печатных плат и солнечных элементов.
Формирование сцинтилляторов и оптических кристаллов:
Обеспечивает обработку иттрий-алюминиевого граната, LSO, BGO и других прецизионных оптических материалов с низким уровнем дефектов.
Спецификация
| Спецификация | Ценить |
| Тип лазера | DPSS Nd:YAG |
| Поддерживаемые длины волн | 532 нм / 1064 нм |
| Варианты электропитания | 50 Вт / 100 Вт / 200 Вт |
| Точность позиционирования | ±5 мкм |
| Минимальная ширина строки | ≤20 мкм |
| Зона термического воздействия | ≤5 мкм |
| Система движения | Линейный/прямоприводной двигатель |
| Максимальная плотность энергии | До 10⁷ Вт/см² |
Заключение
Эта микроструйная лазерная система переосмысливает возможности лазерной обработки твердых, хрупких и термочувствительных материалов. Благодаря уникальной интеграции лазера и воды, совместимости с двумя длинами волн и гибкой системе перемещения, она предлагает специализированное решение для исследователей, производителей и системных интеграторов, работающих с передовыми материалами. Независимо от того, используется ли она на полупроводниковых фабриках, в аэрокосмических лабораториях или при производстве солнечных панелей, эта платформа обеспечивает надежность, повторяемость и точность, что открывает возможности для обработки материалов следующего поколения.
Подробная схема









