Композитные подложки SiC N-типа на Si диаметром 6 дюймов
等级Оценка | У 级 | П 级 | Д 级 |
Низкая степень БЛД | Уровень производства | Фиктивная оценка | |
直径Диаметр | 150,0 мм±0,25 мм | ||
厚度Толщина | 500 мкм±25 мкм | ||
晶片方向Ориентация пластины | Вне оси: 4,0° в сторону < 11-20 > ±0,5° для 4H-N По оси: <0001>±0,5° для 4H-SI | ||
主定位边方向Первичная квартира | {10-10}±5,0° | ||
主定位边长度Основная плоская длина | 47,5 мм±2,5 мм | ||
边缘Исключение краев | 3 мм | ||
总厚度变化/弯曲度/翘曲度 TTV/Лук/Деформация | ≤15 мкм/≤40 мкм/≤60 мкм | ||
微管密度和基面位错МПД и БЛД | MPD≤1 см-2 | MPD≤5 см-2 | MPD≤15 см-2 |
БПД≤1000см-2 | |||
电阻率Удельное сопротивление | ≥1E5 Ом·см | ||
表面粗糙度Шероховатость | Польский Ra≤1 нм | ||
CMP Ra≤0,5 нм | |||
裂纹(强光灯观测) # | Никто | Совокупная длина ≤10 мм, отдельная длина≤2 мм | |
Трещины от света высокой интенсивности | |||
六方空洞 (强光灯观测)* | Совокупная площадь ≤1% | Совокупная площадь ≤5% | |
Шестигранные пластины светом высокой интенсивности | |||
多型(强光灯观测)* | Никто | Совокупная площадь≤5% | |
Политипические области при свете высокой интенсивности | |||
划痕(强光灯观测)*& | 3 царапины на 1×диаметр пластины | 5 царапин на 1×диаметр пластины | |
Царапины от света высокой интенсивности | совокупная длина | совокупная длина | |
崩边# Краевой чип | Никто | Допускается 5, ≤1 мм каждый | |
表面污染物(强光灯观测) | Никто | ||
Загрязнение светом высокой интенсивности |