Ионно-лучевой полировальный станок для сапфира SiC Si

Краткое описание:

Машина для ионно-лучевой обработки и полировки основана на принципеионное распылениеВнутри высоковакуумной камеры источник ионов генерирует плазму, которая ускоряется в высокоэнергетический ионный пучок. Этот пучок бомбардирует поверхность оптического компонента, удаляя материал на атомном уровне, обеспечивая сверхточную коррекцию и финишную обработку поверхности.

Написать нам письмо

Функции

Подробная схема

Обзор продукта: ионно-лучевая полировальная машина

Ионно-лучевой станок для фигурной полировки и обработки основан на принципе ионного распыления. Внутри высоковакуумной камеры источник ионов генерирует плазму, которая ускоряется в высокоэнергетический ионный пучок. Этот пучок бомбардирует поверхность оптического компонента, удаляя материал на атомном уровне, обеспечивая сверхточную коррекцию и финишную обработку поверхности.

Ионно-лучевая полировка, являясь бесконтактным процессом, исключает механическое напряжение и предотвращает подповерхностные повреждения, что делает ее идеальным средством для изготовления высокоточной оптики, используемой в астрономии, космонавтике, полупроводниках и передовых исследовательских приложениях.

Принцип работы ионно-лучевого полировального станка

Генерация ионов
Инертный газ (например, аргон) вводится в вакуумную камеру и ионизируется посредством электрического разряда, образуя плазму.

Ускорение и формирование пучка
Ионы ускоряются до нескольких сотен или тысяч электрон-вольт (эВ) и формируются в стабильное, сфокусированное пятно пучка.

Удаление материала
Ионный пучок физически распыляет атомы с поверхности, не инициируя химических реакций.

Обнаружение ошибок и планирование пути
Отклонения формы поверхности измеряются с помощью интерферометрии. Функции удаления применяются для определения времени выдержки и построения оптимизированных траекторий инструмента.

Коррекция с замкнутым контуром
Итерационные циклы обработки и измерения продолжаются до тех пор, пока не будут достигнуты целевые показатели точности RMS/PV.

Основные характеристики ионно-лучевого полировального станка

Универсальная совместимость с поверхностями– Обрабатывает плоские, сферические, асферические и произвольные поверхности

Ультрастабильная скорость удаления– Позволяет проводить коррекцию чисел с точностью до нанометра

Обработка без повреждений– Отсутствие подповерхностных дефектов или структурных изменений

Постоянная производительность– Одинаково хорошо работает с материалами разной твердости

Коррекция низких/средних частот– Устраняет ошибки, не создавая артефактов средних и высоких частот

Низкие требования к обслуживанию– Длительная непрерывная работа с минимальным временем простоя

Основные технические характеристики ионно-лучевого полировального станка

Элемент	Спецификация
Метод обработки	Ионное распыление в условиях высокого вакуума
Тип обработки	Бесконтактная обработка и полировка поверхностей
Макс. размер заготовки	Φ4000 мм
Оси движения	3-осевой / 5-осевой
Стабильность удаления	≥95%
Точность поверхности	PV < 10 нм; RMS ≤ 0,5 нм (типичное RMS < 1 нм; PV < 15 нм)
Возможность коррекции частоты	Устраняет ошибки низкой и средней частоты, не внося ошибки средней и высокой частоты
Непрерывная работа	3–5 недель без вакуумного обслуживания
Стоимость обслуживания	Низкий

Возможности обработки на ионно-лучевом полировальном станке

Поддерживаемые типы поверхностей

Простые: плоские, сферические, призматические

Комплекс: симметричная/асимметричная асферика, внеосевая асферика, цилиндрическая

Специальные: Ультратонкая оптика, ламелевая оптика, полусферическая оптика, конформная оптика, фазовые пластины, поверхности свободной формы

Поддерживаемые материалы

Оптическое стекло: кварцевое, микрокристаллическое, К9 и т. д.

Инфракрасные материалы: кремний, германий и др.

Металлы: алюминий, нержавеющая сталь, титановый сплав и др.

Кристаллы: YAG, монокристаллический карбид кремния и др.

Твердые/хрупкие материалы: карбид кремния и т. д.

Качество поверхности/Точность

ПВ < 10 нм

Среднеквадратичное отклонение ≤ 0,5 нм

Примеры применения ионно-лучевой полировальной машины

Случай 1 – Стандартное плоское зеркало

Заготовка: кварцевый плоский диск D630 мм

Результат: PV 46,4 нм; RMS 4,63 нм

Случай 2 – Рентгеновское отражающее зеркало

Заготовка: плоская кремниевая пластина размером 150 × 30 мм

Результат: PV 8,3 нм; RMS 0,379 нм; Наклон 0,13 мкрад

Случай 3 – Внеосевое зеркало

Заготовка: внеосевое шлифованное зеркало D326 мм

Результат: PV 35,9 нм; RMS 3,9 нм

Часто задаваемые вопросы о кварцевых стеклах

Часто задаваемые вопросы – Ионно-лучевая полировальная машина

В1: Что такое ионно-лучевая полировка?
А1:Ионно-лучевая полировка — это бесконтактный процесс, при котором для удаления материала с поверхности заготовки используется сфокусированный пучок ионов (например, ионов аргона). Ионы ускоряются и направляются к поверхности, обеспечивая удаление материала на атомарном уровне, что приводит к получению сверхгладкой поверхности. Этот процесс исключает механические напряжения и подповерхностные повреждения, что делает его идеальным для прецизионных оптических компонентов.

В2: Какие типы поверхностей можно обрабатывать на ионно-лучевом полировальном станке?
А2:TheМашина для ионно-лучевой полировкиможет обрабатывать различные поверхности, включая простые оптические компоненты, такие какплоскости, сферы и призмы, а также сложные геометрии, такие какасферики, внеосевые асферики, иповерхности произвольной формы. Он особенно эффективен для таких материалов, как оптическое стекло, инфракрасная оптика, металлы и твердые/хрупкие материалы.

В3: С какими материалами может работать ионно-лучевой полировальный станок?
А3:TheМашина для ионно-лучевой полировкиможет полировать широкий спектр материалов, включая:

Оптическое стекло: Кварц, микрокристаллический, К9 и т. д.
Инфракрасные материалы: Кремний, германий и т. д.
Металлы: Алюминий, нержавеющая сталь, титановый сплав и т. д.
Кристаллические материалы: YAG, монокристаллический карбид кремния и т. д.
Другие твердые/хрупкие материалы: Карбид кремния и т.д.

О нас

Компания XKH специализируется на высокотехнологичной разработке, производстве и продаже специального оптического стекла и новых кристаллических материалов. Наша продукция используется в оптической электронике, потребительской электронике и оборонном секторе. Мы предлагаем сапфировые оптические компоненты, крышки для объективов мобильных телефонов, керамические, литий-ионные кристаллы (LT), карбид кремния SIC, кварцевые и полупроводниковые кристаллические пластины. Благодаря опыту и передовому оборудованию мы превосходим всех в обработке нестандартных изделий, стремясь стать ведущим высокотехнологичным предприятием в области оптоэлектронных материалов.