Нитрид галлия (GaN) эпитаксиально выращен на сапфировых пластинах 4 дюйма 6 дюймов для MEMS
Свойства GaN на сапфировых пластинах
●Высокая эффективность:Устройства на основе GaN обеспечивают в пять раз большую мощность, чем устройства на основе кремния, повышая производительность в различных электронных приложениях, включая усиление радиочастот и оптоэлектронику.
●Широкая запрещенная зона:Широкая запрещенная зона GaN обеспечивает высокую эффективность при повышенных температурах, что делает его идеальным для высокомощных и высокочастотных приложений.
●Долговечность:Способность GaN выдерживать экстремальные условия (высокие температуры и радиацию) обеспечивает длительную работу в суровых условиях.
●Маленький размер:GaN позволяет производить более компактные и легкие устройства по сравнению с традиционными полупроводниковыми материалами, что позволяет создавать более компактную и мощную электронику.
Абстрактный
Нитрид галлия (GaN) становится предпочтительным полупроводником для современных приложений, требующих высокой мощности и эффективности, таких как входные модули RF, высокоскоростные системы связи и светодиодное освещение. Эпитаксиальные пластины GaN, выращенные на сапфировых подложках, обеспечивают сочетание высокой теплопроводности, высокого напряжения пробоя и широкого частотного отклика, что является ключевым фактором для оптимальной производительности в беспроводных коммуникационных устройствах, радарах и глушителях. Эти пластины доступны как в диаметрах 4 дюйма, так и в 6 дюймов с различной толщиной GaN для соответствия различным техническим требованиям. Уникальные свойства GaN делают его главным кандидатом для будущего силовой электроники.
Параметры продукта
Особенность продукта | Спецификация |
Диаметр пластины | 50мм, 100мм, 50,8мм |
Субстрат | Сапфир |
Толщина слоя GaN | 0,5 мкм - 10 мкм |
Тип GaN/Легирование | N-тип (P-тип доступен по запросу) |
Ориентация кристалла GaN | <0001> |
Тип полировки | Односторонняя полировка (SSP), двухсторонняя полировка (DSP) |
Толщина Al2O3 | 430 мкм - 650 мкм |
TTV (Общее изменение толщины) | ≤ 10 мкм |
Поклон | ≤ 10 мкм |
Варп | ≤ 10 мкм |
Площадь поверхности | Полезная площадь поверхности > 90% |
Вопросы и ответы
В1: Каковы основные преимущества использования GaN по сравнению с традиционными полупроводниками на основе кремния?
A1: GaN предлагает несколько существенных преимуществ по сравнению с кремнием, включая более широкую запрещенную зону, что позволяет ему выдерживать более высокие напряжения пробоя и эффективно работать при более высоких температурах. Это делает GaN идеальным для мощных, высокочастотных приложений, таких как радиочастотные модули, усилители мощности и светодиоды. Способность GaN выдерживать более высокую плотность мощности также позволяет создавать более мелкие и эффективные устройства по сравнению с альтернативами на основе кремния.
В2: Можно ли использовать GaN на сапфировых пластинах в приложениях МЭМС (микроэлектромеханических системах)?
A2: Да, GaN на сапфировых пластинах подходит для приложений MEMS, особенно там, где требуются высокая мощность, температурная стабильность и низкий уровень шума. Прочность и эффективность материала в высокочастотных средах делают его идеальным для устройств MEMS, используемых в беспроводных системах связи, датчиков и радаров.
В3: Каковы потенциальные области применения GaN в беспроводной связи?
A3: GaN широко используется в радиочастотных фронтальных модулях для беспроводной связи, включая инфраструктуру 5G, радиолокационные системы и глушилки. Его высокая плотность мощности и теплопроводность делают его идеальным для мощных, высокочастотных устройств, обеспечивая лучшую производительность и меньшие форм-факторы по сравнению с решениями на основе кремния.
В4: Каковы сроки поставки и минимальные объемы заказа для пластин GaN на сапфире?
A4: Сроки выполнения и минимальные объемы заказа зависят от размера пластины, толщины GaN и конкретных требований заказчика. Пожалуйста, свяжитесь с нами напрямую для получения подробной информации о ценах и наличии на основе ваших спецификаций.
В5: Могу ли я получить индивидуальную толщину слоя GaN или уровень легирования?
A5: Да, мы предлагаем настройку толщины GaN и уровней легирования для удовлетворения конкретных потребностей приложения. Пожалуйста, сообщите нам желаемые характеристики, и мы предоставим индивидуальное решение.
Подробная схема



