Эпитаксиальный нитрид галлия (GaN), выращенный на сапфировых пластинах размером 4 дюйма и 6 дюймов для МЭМС
Свойства GaN на сапфировых пластинах
●Высокая эффективность:Устройства на основе GaN обеспечивают в пять раз большую мощность, чем устройства на основе кремния, повышая производительность в различных электронных приложениях, включая усиление радиочастот и оптоэлектронику.
●Широкая запрещенная зона:Широкая запрещенная зона GaN обеспечивает высокую эффективность при повышенных температурах, что делает его идеальным для высокомощных и высокочастотных приложений.
●Долговечность:Способность GaN выдерживать экстремальные условия (высокие температуры и радиацию) обеспечивает длительную работу в суровых условиях.
●Маленький размер:GaN позволяет производить более компактные и легкие устройства по сравнению с традиционными полупроводниковыми материалами, что позволяет создавать более компактную и мощную электронику.
Абстрактный
Нитрид галлия (GaN) становится предпочтительным полупроводником для современных приложений, требующих высокой мощности и эффективности, таких как входные радиочастотные модули, высокоскоростные системы связи и светодиодное освещение. Эпитаксиальные пластины GaN, выращенные на сапфировых подложках, обеспечивают сочетание высокой теплопроводности, высокого напряжения пробоя и широкого частотного диапазона, что является ключевым фактором для оптимальной производительности устройств беспроводной связи, радаров и генераторов помех. Эти пластины доступны диаметром 4 и 6 дюймов, с различной толщиной слоя GaN для удовлетворения различных технических требований. Уникальные свойства GaN делают его одним из лучших вариантов для будущего силовой электроники.
Параметры продукта
Особенность продукта | Спецификация |
Диаметр пластины | 50 мм, 100 мм, 50,8 мм |
Субстрат | Сапфир |
Толщина слоя GaN | 0,5 мкм - 10 мкм |
Тип GaN/Легирование | N-тип (P-тип доступен по запросу) |
Ориентация кристалла GaN | <0001> |
Тип полировки | Односторонняя полировка (SSP), двухсторонняя полировка (DSP) |
Толщина Al2O3 | 430 мкм - 650 мкм |
TTV (Общее изменение толщины) | ≤ 10 мкм |
Поклон | ≤ 10 мкм |
Варп | ≤ 10 мкм |
Площадь поверхности | Полезная площадь поверхности > 90% |
Вопросы и ответы
В1: Каковы основные преимущества использования GaN по сравнению с традиционными полупроводниками на основе кремния?
A1: GaN обладает рядом существенных преимуществ по сравнению с кремнием, включая более широкую запрещенную зону, что позволяет ему выдерживать более высокие напряжения пробоя и эффективно работать при более высоких температурах. Это делает GaN идеальным материалом для мощных и высокочастотных приложений, таких как радиочастотные модули, усилители мощности и светодиоды. Способность GaN выдерживать более высокую плотность мощности также позволяет создавать более компактные и эффективные устройства по сравнению с кремниевыми аналогами.
В2: Можно ли использовать GaN на сапфировых пластинах в приложениях МЭМС (микроэлектромеханических системах)?
A2Да, GaN на сапфировых пластинах подходит для MEMS-приложений, особенно там, где требуются высокая мощность, температурная стабильность и низкий уровень шума. Долговечность и эффективность материала в высокочастотных средах делают его идеальным для MEMS-устройств, используемых в системах беспроводной связи, датчиках и радарах.
В3: Каковы потенциальные области применения GaN в беспроводной связи?
A3: GaN широко используется в радиочастотных модулях для беспроводной связи, включая инфраструктуру 5G, радиолокационные системы и генераторы помех. Высокая плотность мощности и теплопроводность делают его идеальным для мощных высокочастотных устройств, обеспечивая более высокую производительность и меньшие габариты по сравнению с кремниевыми решениями.
В4: Каковы сроки поставки и минимальные объемы заказа для пластин GaN на сапфире?
A4: Сроки выполнения заказа и минимальный объём заказа зависят от размера пластины, толщины GaN и конкретных требований заказчика. Свяжитесь с нами напрямую, чтобы узнать подробную информацию о цене и наличии в соответствии с вашими требованиями.
В5: Могу ли я получить индивидуальную толщину слоя GaN или уровни легирования?
A5: Да, мы предлагаем индивидуальную настройку толщины GaN и уровня легирования для удовлетворения конкретных потребностей. Сообщите нам ваши требования, и мы предложим индивидуальное решение.
Подробная схема



