GaAs высокомощная эпитаксиальная пластина подложка пластина арсенида галлия мощность лазера длина волны 905 нм для лазерной медицинской терапии
Основные характеристики лазерного эпитаксиального листа GaAs включают в себя:
1. Высокая подвижность электронов: арсенид галлия обладает высокой подвижностью электронов, благодаря чему лазерные эпитаксиальные пластины GaAs находят широкое применение в высокочастотных устройствах и высокоскоростных электронных устройствах.
2. Люминесценция с прямым переходом в запрещенную зону: как материал с прямой запрещенной зоной арсенид галлия может эффективно преобразовывать электрическую энергию в световую в оптоэлектронных устройствах, что делает его идеальным для производства лазеров.
3. Длина волны: лазеры GaAs 905 обычно работают на длине волны 905 нм, что делает их пригодными для многих применений, включая биомедицину.
4. Высокая эффективность: благодаря высокой эффективности фотоэлектрического преобразования он может эффективно преобразовывать электрическую энергию в выходной лазерный сигнал.
5. Высокая выходная мощность: обеспечивает высокую выходную мощность и подходит для случаев применения, требующих мощного источника света.
6. Хорошие тепловые характеристики: материал GaAs обладает хорошей теплопроводностью, что помогает снизить рабочую температуру лазера и повысить стабильность.
7. Широкие возможности настройки: выходную мощность можно регулировать путем изменения тока возбуждения, чтобы адаптировать ее к различным требованиям применения.
Основные области применения эпитаксиальных таблеток GaAs-лазера включают:
1. Оптоволоконная связь: эпитаксиальный лист GaAs-лазера может использоваться для изготовления лазеров в оптоволоконной связи для достижения высокоскоростной и дальней передачи оптического сигнала.
2. Промышленное применение: В промышленной сфере лазерные эпитаксиальные листы GaAs могут использоваться для лазерной локации, лазерной маркировки и других применений.
3. VCSEL: Вертикальный лазер с поверхностным излучением (VCSEL) является важной областью применения эпитаксиального листа лазера на основе GaAs, который широко используется в оптической связи, оптической памяти и оптическом считывании.
4. Инфракрасное и точечное поле: лазерный эпитаксиальный лист GaAs также может использоваться для изготовления инфракрасных лазеров, точечных генераторов и других устройств, играя важную роль в инфракрасном детектировании, световом отображении и других областях.
Подготовка лазерного эпитаксиального листа GaAs в основном зависит от технологии эпитаксиального роста, включая осаждение из паровой фазы металлорганических соединений (MOCVD), молекулярно-лучевую эпитаксиальную (MBE) и другие методы. Эти методы позволяют точно контролировать толщину, состав и кристаллическую структуру эпитаксиального слоя для получения высококачественных лазерных эпитаксиальных листов GaAs.
XKH предлагает кастомизацию эпитаксиальных листов GaAs в различных структурах и толщинах, охватывая широкий спектр приложений в оптической связи, VCSEL, инфракрасных и световых пятнах. Продукция XKH производится с использованием передового оборудования MOCVD для обеспечения высокой производительности и надежности. С точки зрения логистики, XKH имеет широкий спектр международных каналов поставок, которые могут гибко обрабатывать количество заказов и предоставлять услуги с добавленной стоимостью, такие как очистка и подразделение. Эффективные процессы доставки гарантируют своевременную доставку и отвечают требованиям клиентов по качеству и срокам доставки. Клиенты могут получить комплексную техническую поддержку и послепродажное обслуживание после прибытия, чтобы гарантировать бесперебойную эксплуатацию продукта.
Подробная схема


