8-дюймовая 200-мм пластина 4H-N SiC, проводящая манекен, исследовательский класс
Благодаря своим уникальным физическим и электронным свойствам полупроводниковый материал SiC толщиной 200 мм используется для создания высокопроизводительных, высокотемпературных, радиационно-стойких и высокочастотных электронных устройств. Цена на 8-дюймовую подложку SiC постепенно снижается по мере того, как технология становится более совершенной и спрос растет. Последние технологические разработки привели к промышленному производству пластин SiC диаметром 200 мм. Основные преимущества пластинчатых полупроводниковых материалов SiC по сравнению с пластинами Si и GaAs: Напряженность электрического поля 4H-SiC при лавинном пробое более чем на порядок превышает соответствующие значения для Si и GaAs. Это приводит к значительному уменьшению удельного сопротивления Ron во включенном состоянии. Низкое удельное сопротивление в открытом состоянии в сочетании с высокой плотностью тока и теплопроводностью позволяет использовать очень маленькие кристаллы для силовых устройств. Высокая теплопроводность SiC снижает термическое сопротивление чипа. Электронные свойства устройств на основе пластин SiC очень стабильны во времени и температуре, что обеспечивает высокую надежность изделий. Карбид кремния чрезвычайно устойчив к жесткому излучению, что не ухудшает электронные свойства чипа. Высокая предельная рабочая температура кристалла (более 6000С) позволяет создавать высоконадежные устройства для тяжелых условий эксплуатации и специального применения. В настоящее время мы можем стабильно и непрерывно поставлять небольшие партии пластин SiC толщиной 200 мм и иметь некоторый запас на складе.
Спецификация
Число | Элемент | Единица | Производство | Исследовать | Дурачок |
1. Параметры | |||||
1.1 | политип | -- | 4H | 4H | 4H |
1.2 | ориентация поверхности | ° | <11-20>4±0,5 | <11-20>4±0,5 | <11-20>4±0,5 |
2. Электрический параметр | |||||
2.1 | присадка | -- | Азот n-типа | Азот n-типа | Азот n-типа |
2.2 | удельное сопротивление | ом·см | 0,015~0,025 | 0,01~0,03 | NA |
3. Механический параметр | |||||
3.1 | диаметр | mm | 200±0,2 | 200±0,2 | 200±0,2 |
3.2 | толщина | мкм | 500±25 | 500±25 | 500±25 |
3.3 | Ориентация выреза | ° | [1- 100]±5 | [1- 100]±5 | [1- 100]±5 |
3.4 | Глубина выреза | mm | 1~1,5 | 1~1,5 | 1~1,5 |
3,5 | Общая ценность | мкм | ≤5(10мм*10мм) | ≤5(10мм*10мм) | ≤10(10мм*10мм) |
3.6 | ТТВ | мкм | ≤10 | ≤10 | ≤15 |
3.7 | Поклон | мкм | -25~25 | -45~45 | -65~65 |
3,8 | Деформация | мкм | ≤30 | ≤50 | ≤70 |
3,9 | АСМ | nm | Ра≤0,2 | Ра≤0,2 | Ра≤0,2 |
4. Структура | |||||
4.1 | плотность микротрубок | шт/см2 | ≤2 | ≤10 | ≤50 |
4.2 | содержание металла | атомов/см2 | ≤1E11 | ≤1E11 | NA |
4.3 | ТСД | шт/см2 | ≤500 | ≤1000 | NA |
4.4 | БЛД | шт/см2 | ≤2000 | ≤5000 | NA |
4,5 | ТЕД | шт/см2 | ≤7000 | ≤10000 | NA |
5. Положительное качество | |||||
5.1 | передний | -- | Si | Si | Si |
5.2 | обработка поверхности | -- | Si-лицо CMP | Si-лицо CMP | Si-лицо CMP |
5.3 | частица | шт/вафля | ≤100 (размер≥0,3 мкм) | NA | NA |
5.4 | царапать | шт/вафля | ≤5, общая длина≤200 мм | NA | NA |
5,5 | Край сколы/вмятины/трещины/пятна/загрязнения | -- | Никто | Никто | NA |
5,6 | Политипные области | -- | Никто | Площадь ≤10% | Площадь ≤30% |
5,7 | передняя маркировка | -- | Никто | Никто | Никто |
6. Качество спинки | |||||
6.1 | задняя отделка | -- | C-face MP | C-face MP | C-face MP |
6.2 | царапать | mm | NA | NA | NA |
6.3 | Край задних дефектов сколы/вмятины | -- | Никто | Никто | NA |
6.4 | Задняя шероховатость | nm | Ра≤5 | Ра≤5 | Ра≤5 |
6,5 | Задняя маркировка | -- | Нотч | Нотч | Нотч |
7. Край | |||||
7.1 | край | -- | Фаска | Фаска | Фаска |
8. Пакет | |||||
8.1 | упаковка | -- | Эпи-готовность с вакуумом упаковка | Эпи-готовность с вакуумом упаковка | Эпи-готовность с вакуумом упаковка |
8.2 | упаковка | -- | Мультивафельный кассетная упаковка | Мультивафельный кассетная упаковка | Мультивафельный кассетная упаковка |