8-дюймовая 200-мм сапфировая пластина-носитель, подложка SSP DSP, толщина 0,5 мм 0,75 мм
Подробная информация
Метод изготовления: Процесс изготовления 8-дюймовой сапфировой подложки включает несколько этапов. Сначала порошок высокочистого оксида алюминия плавится при высокой температуре до состояния расплава. Затем в расплав погружается затравочный кристалл, который постепенно извлекается, позволяя сапфиру расти. После достаточного роста кристалл сапфира аккуратно разрезается на тонкие пластины, которые затем полируются для получения гладкой и безупречной поверхности.
Применение 8-дюймовой сапфировой подложки: 8-дюймовая сапфировая подложка широко используется в полупроводниковой промышленности, в частности, в производстве электронных устройств и оптоэлектронных компонентов. Она служит основой для эпитаксиального роста полупроводников, что позволяет создавать высокопроизводительные интегральные схемы, светодиоды и лазерные диоды. Сапфировая подложка также применяется в производстве оптических окон, циферблатов часов и защитных чехлов для смартфонов и планшетов.
Технические характеристики 8-дюймовой сапфировой подложки:
- Размер: 8-дюймовая сапфировая подложка имеет диаметр 200 мм, что обеспечивает большую площадь поверхности для осаждения эпитаксиальных слоев.
- Качество поверхности: Поверхность подложки тщательно полируется для достижения высокого оптического качества со среднеквадратичной шероховатостью менее 0,5 нм.
- Толщина: Стандартная толщина подложки составляет 0,5 мм. Однако по запросу доступны варианты другой толщины.
– Упаковка: Сапфировые подложки упаковываются индивидуально для обеспечения защиты при транспортировке и хранении. Обычно они помещаются в специальные лотки или коробки с соответствующими прокладочными материалами для предотвращения повреждений.
- Ориентация краев: подложка имеет определенную ориентацию краев, что имеет решающее значение для точного выравнивания в процессе производства полупроводников.
В заключение отметим, что 8-дюймовая сапфировая подложка — это универсальный и надёжный материал, широко используемый в полупроводниковой промышленности благодаря своим исключительным термическим, химическим и оптическим свойствам. Благодаря превосходному качеству поверхности и точным характеристикам она служит важнейшим компонентом в производстве высокопроизводительных электронных и оптоэлектронных устройств.
Подробная схема


