8-дюймовая сапфировая пластина, 200 мм, несущая подложка SSP DSP, толщина 0,5 мм 0,75 мм
Подробная информация
Метод изготовления: Процесс производства 8-дюймовой сапфировой подложки включает в себя несколько этапов. Сначала порошок оксида алюминия высокой чистоты плавится при высокой температуре с образованием расплавленного состояния. Затем в расплав погружают затравочный кристалл, позволяя сапфиру расти по мере медленного извлечения затравки. После достаточного роста сапфировое стекло аккуратно разрезается на тонкие пластины, которые затем полируются до получения гладкой и безупречной поверхности.
Применение 8-дюймовой сапфировой подложки: 8-дюймовая сапфировая подложка широко используется в полупроводниковой промышленности, особенно в производстве электронных устройств и оптоэлектронных компонентов. Он служит важной основой для эпитаксиального роста полупроводников, позволяя создавать высокопроизводительные интегральные схемы, светодиоды (LED) и лазерные диоды. Сапфировая подложка также находит применение при производстве оптических окон, циферблатов и защитных чехлов для смартфонов и планшетов.
Характеристики продукта 8-дюймовой сапфировой подложки:
- Размер: 8-дюймовая сапфировая подложка имеет диаметр 200 мм, что обеспечивает большую площадь поверхности для нанесения эпитаксиальных слоев.
- Качество поверхности: поверхность подложки тщательно полируется для достижения высокого оптического качества с шероховатостью поверхности менее 0,5 нм RMS.
- Толщина: Стандартная толщина подложки составляет 0,5 мм. Однако по запросу доступны индивидуальные варианты толщины.
- Упаковка: Сапфировые подложки упаковываются индивидуально, чтобы обеспечить защиту при транспортировке и хранении. Обычно их помещают в специальные лотки или коробки с соответствующими прокладочными материалами, чтобы предотвратить любые повреждения.
- Ориентация кромок: подложка имеет заданную ориентацию кромок, что имеет решающее значение для точного выравнивания в процессе производства полупроводников.
В заключение отметим, что 8-дюймовая сапфировая подложка — универсальный и надежный материал, широко используемый в полупроводниковой промышленности благодаря своим исключительным термическим, химическим и оптическим свойствам. Благодаря превосходному качеству поверхности и точным характеристикам он служит важным компонентом в производстве высокопроизводительных электронных и оптоэлектронных устройств.