6-дюймовые 150-миллиметровые пластины из карбида кремния SiC типа 4H-N для исследований и испытаний на производстве МОП-транзисторов или SBD-транзисторов.
Области применения
6-дюймовая монокристаллическая подложка из карбида кремния играет ключевую роль во многих отраслях промышленности. Во-первых, она широко используется в полупроводниковой промышленности для изготовления мощных электронных устройств, таких как силовые транзисторы, интегральные схемы и силовые модули. Высокая теплопроводность и термостойкость обеспечивают более эффективное рассеивание тепла, что повышает эффективность и надежность. Во-вторых, пластины из карбида кремния играют важнейшую роль в исследованиях, направленных на разработку новых материалов и устройств. Кроме того, пластины из карбида кремния находят широкое применение в оптоэлектронике, включая производство светодиодов и лазерных диодов.
Технические характеристики продукта
Подложка из монокристалла карбида кремния диаметром 6 дюймов (приблизительно 152,4 мм) имеет шероховатость поверхности Ra < 0,5 нм и толщину 600 ± 25 мкм. По желанию заказчика подложка может быть изготовлена с проводимостью N- или P-типа. Кроме того, она обладает исключительной механической стабильностью, выдерживая давление и вибрацию.
Диаметр | 150±2,0 мм (6 дюймов) | ||||
Толщина | 350 мкм±25 мкм | ||||
Ориентация | По оси: <0001>±0,5° | Вне оси: 4,0° в направлении 1120±0,5° | |||
Политип | 4H | ||||
Удельное сопротивление (Ом·см) | 4H-N | 0,015~0,028 Ом·см/0,015~0,025 Ом·см | |||
4/6H-SI | >1E5 | ||||
Первичная плоская ориентация | {10-10}±5,0° | ||||
Длина первичной плоскости (мм) | 47,5 мм±2,5 мм | ||||
Край | Фаска | ||||
TTV/Bow/Warp (гм) | ≤15 /≤40 /≤60 | ||||
Фронт АСМ (Si-face) | Полировка Ra≤1 нм | ||||
CMP Ra≤0,5 нм | |||||
ЛТВ | ≤3мкм(10мм*10мм) | ≤5мкм(10мм*10мм) | ≤10мкм(10мм*10мм) | ||
ТТВ | ≤5мкм | ≤10 мкм | ≤15мкм | ||
Апельсиновая корка/ямки/трещины/загрязнения/пятна/борозды | Никто | Никто | Никто | ||
отступы | Никто | Никто | Никто |
6-дюймовая монокристаллическая подложка из карбида кремния — это высокопроизводительный материал, широко используемый в полупроводниковой, исследовательской и оптоэлектронной промышленности. Он обладает превосходной теплопроводностью, механической стабильностью и стойкостью к высоким температурам, что делает его подходящим для производства мощных электронных устройств и исследований новых материалов. Мы предлагаем различные спецификации и варианты индивидуальной настройки для удовлетворения разнообразных требований клиентов.Свяжитесь с нами для получения более подробной информации о пластинах из карбида кремния!
Подробная схема

