6-дюймовые 150-миллиметровые пластины из карбида кремния SiC типа 4H-N для исследований и испытаний на производстве МОП-транзисторов или SBD-транзисторов.

Краткое описание:

6-дюймовая монокристаллическая подложка из карбида кремния – это высокопроизводительный материал с превосходными физико-химическими свойствами. Изготовленная из высокочистого монокристаллического карбида кремния, она обладает превосходной теплопроводностью, механической стабильностью и устойчивостью к высоким температурам. Эта подложка, изготовленная с применением прецизионных технологий и из высококачественных материалов, стала предпочтительным материалом для изготовления высокоэффективных электронных устройств в различных областях.


Функции

Области применения

6-дюймовая монокристаллическая подложка из карбида кремния играет ключевую роль во многих отраслях промышленности. Во-первых, она широко используется в полупроводниковой промышленности для изготовления мощных электронных устройств, таких как силовые транзисторы, интегральные схемы и силовые модули. Высокая теплопроводность и термостойкость обеспечивают более эффективное рассеивание тепла, что повышает эффективность и надежность. Во-вторых, пластины из карбида кремния играют важнейшую роль в исследованиях, направленных на разработку новых материалов и устройств. Кроме того, пластины из карбида кремния находят широкое применение в оптоэлектронике, включая производство светодиодов и лазерных диодов.

Технические характеристики продукта

Подложка из монокристалла карбида кремния диаметром 6 дюймов (приблизительно 152,4 мм) имеет шероховатость поверхности Ra < 0,5 нм и толщину 600 ± 25 мкм. По желанию заказчика подложка может быть изготовлена с проводимостью N- или P-типа. Кроме того, она обладает исключительной механической стабильностью, выдерживая давление и вибрацию.

Диаметр 150±2,0 мм (6 дюймов)

Толщина

350 мкм±25 мкм

Ориентация

По оси: <0001>±0,5°

Вне оси: 4,0° в направлении 1120±0,5°

Политип 4H

Удельное сопротивление (Ом·см)

4H-N

0,015~0,028 Ом·см/0,015~0,025 Ом·см

4/6H-SI

>1E5

Первичная плоская ориентация

{10-10}±5,0°

Длина первичной плоскости (мм)

47,5 мм±2,5 мм

Край

Фаска

TTV/Bow/Warp (гм)

≤15 /≤40 /≤60

Фронт АСМ (Si-face)

Полировка Ra≤1 нм

CMP Ra≤0,5 нм

ЛТВ

≤3мкм(10мм*10мм)

≤5мкм(10мм*10мм)

≤10мкм(10мм*10мм)

ТТВ

≤5мкм

≤10 мкм

≤15мкм

Апельсиновая корка/ямки/трещины/загрязнения/пятна/борозды

Никто Никто Никто

отступы

Никто Никто Никто

6-дюймовая монокристаллическая подложка из карбида кремния — это высокопроизводительный материал, широко используемый в полупроводниковой, исследовательской и оптоэлектронной промышленности. Он обладает превосходной теплопроводностью, механической стабильностью и стойкостью к высоким температурам, что делает его подходящим для производства мощных электронных устройств и исследований новых материалов. Мы предлагаем различные спецификации и варианты индивидуальной настройки для удовлетворения разнообразных требований клиентов.Свяжитесь с нами для получения более подробной информации о пластинах из карбида кремния!

Подробная схема

WechatIMG569_ (1)
WechatIMG569_ (2)

  • Предыдущий:
  • Следующий:

  • Напишите здесь свое сообщение и отправьте его нам